圖為中國國家知識產權局局長申長雨（右二），歐洲專利局局長安東尼奧·坎普諾斯（左一），日本特許廳長官宗像直子（左二），韓國特許廳廳長樸原住（左三）和美國專利商標局局長安德烈·揚庫（右一）在會上共同簽署2019年知識產權五局合作聯合聲明。

　　當地時間6月12日至13日，第十二次知識產權五局合作局長系列會議在韓國仁川召開。會議由韓國特許廳廳長樸原住主持，中國國家知識產權局局長申長雨、歐洲專利局局長安東尼奧·坎普諾斯、日本特許廳長官宗像直子、美國專利商標局局長安德烈·揚庫率團出席會議。世界知識產權組織總干事弗朗西斯·高銳以觀察員身份列席會議。

　　會上，五局局長首先圍繞新興技術/人工智能的影響和準備、五局合作未來發展這兩個戰略性議題展開深入討論。申長雨在發言中指出，在用戶對質量效率和新興技術雙重需求的共同驅動下，五局合作當前面臨前所未有的新形勢。一方面，要繼續加強以提升質量和效率為目標的長期合作舉措，優化完善已有服務；另一方面，要不斷滿足用戶在新興技術領域日益增長的迫切需求。為了應對雙重挑戰，五局應從優化合作機制和平衡資源分配、增強與用戶的交流和互動等方面探索解決途徑。他強調，五局未來合作的重點應放在加強新興技術合作、調整完善合作機制以及拓展信息交流三個方面。應保持開放和積極的合作態度，根據新形勢不斷調整合作內容、機制和形式，形成滿足用戶多元化需求的合作成果，更好地促進相關國家和地區的知識產權保護，推動技術進步和社會發展。

　　會上，五局局長批準了一年來各項合作成果及下一步工作計劃，并共同簽署了2019年知識產權五局合作聯合聲明。該聲明總結了近年來五局針對協調和簡化程序、加強工作共享、提升專利質量、便捷提供專利信息和統計數據、及時修訂專利分類等領域的合作成果，并指出未來五局合作將聚焦于應對全球技術變革、提供高質量和可靠的審查、創新完善五局合作機制等方面。

　　在6月12日召開的第八次五局局長與產業界會議上，申長雨向來自中美歐日韓五個國家和地區的產業界代表介紹了中國政府對知識產權工作的最新部署，并特別介紹了中國國家知識產權局在知識產權保護、審查和服務等方面開展的工作。會上，各方就新興技術和五局合作未來發展兩項戰略性議題進行了深入的交流。小米、格力等企業代表中國產業界參會并積極發言。

　　中國國家知識產權局副局長甘紹寧出席此前召開的五局副局長會議，并參加了上述活動。